特許
J-GLOBAL ID：201203081386231630

基板洗浄装置、これを備える塗布現像装置、および基板洗浄方法

発明者：
大河内 厚

大河内 厚 について

, 
久米 純次

久米 純次 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 伊東 忠彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-160033
公開番号（公開出願番号）：特開2012-023209
出願日： 2010年07月14日
公開日（公表日）： 2012年02月02日
要約：
【課題】基板のベベル部を簡便かつ効率的に洗浄することができ、省スペース化にも有利な基板洗浄装置、これを備える塗布現像装置、および基板洗浄方法を提供する。【解決手段】本発明の実施形態による基板洗浄装置は、基板の裏面中心部を保持し、当該基板を回転する基板保持回転部と、第1の洗浄部、前記第1の洗浄部の周りに配置される第2の洗浄部、並びに前記第1の洗浄部および前記第2の洗浄部が取り付けられる台座を含む洗浄部材と、前記基板保持回転部に保持される前記基板の裏面に前記第1の洗浄部と前記第2の洗浄部とを接触可能に、前記基板保持回転部および前記洗浄部材を相対的に昇降する昇降部と、前記第2の洗浄部の一部を前記基板の外側に露出可能に、前記基板の裏面に沿った方向に、前記基板および前記洗浄部材を相対的に駆動する駆動部とを備える。【選択図】図3
請求項（抜粋）：
基板の裏面中心部を保持し、当該基板を回転する基板保持回転部と、 第1の洗浄部、前記第1の洗浄部の周りに配置される第2の洗浄部、並びに前記第1の洗浄部および前記第2の洗浄部が取り付けられる台座を含む洗浄部材と、 前記基板保持回転部に保持される前記基板の裏面に前記第1の洗浄部と前記第2の洗浄部とを接触可能に、前記基板保持回転部および前記洗浄部材を相対的に昇降する昇降部と、 前記第2の洗浄部の一部を前記基板の外側に露出可能に、前記基板の裏面に沿った方向に、前記基板および前記洗浄部材を相対的に駆動する駆動部と を備える基板洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/30
FI (5件)：
H01L21/304 644C ,  H01L21/304 648A ,  H01L21/304 651B ,  H01L21/30 577 ,  G03F7/30 501
Fターム (37件)：
2H096AA25 ,  2H096GA21 ,  5F046LA02 ,  5F046LA18 ,  5F046MA02 ,  5F046MA10 ,  5F146LA02 ,  5F146LA18 ,  5F146MA02 ,  5F146MA10 ,  5F157AA12 ,  5F157AA14 ,  5F157AA15 ,  5F157AA64 ,  5F157AA91 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB33 ,  5F157AB47 ,  5F157AB74 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC26 ,  5F157BA02 ,  5F157BA07 ,  5F157BB22 ,  5F157BB76 ,  5F157CF40 ,  5F157CF66 ,  5F157CF72 ,  5F157CF90 ,  5F157DB02 ,  5F157DB38 ,  5F157DB51 ,  5F157DC31 ,  5F157DC51 ,  5F157DC90
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (4件)
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