特許
J-GLOBAL ID：201203083579032913
積層体およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
宮崎 昭夫
, 石橋 政幸
, 緒方 雅昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-091059
公開番号（公開出願番号）：特開2012-223910
出願日： 2011年04月15日
公開日（公表日）： 2012年11月15日
要約：
【課題】耐候性、透明性、基材との密着性に優れた保護被膜を有する積層体を提供する。【解決手段】基材と、電離放射線硬化性樹脂を硬化し真空紫外光を照射して高エネルギー表面処理を施した第1層と、式(1)のアルキルシリケート類及び式(2)のオルガノシラン類の少なくとも一方を加水分解縮合して得たシロキサン化合物(A)を含む硬化性組成物を硬化した第2層を有する積層体及びその製造方法。【化1】 [R1,R2,R3,R4=C1-5アルキル基又はC1-4アシル基,n=3-20,R5=C1-10アルキル基等を含む有機基,R6=C1-5アルキル基又はC1-4アシル基,a=1-3]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
基材と、該基材上に形成された第1層と、該第1層上に形成された第2層とを有する積層体であって、
前記第1層は、電離放射線硬化性樹脂を硬化し、真空紫外光を照射して高エネルギー表面処理を施した層であり、
前記第2層は、下記一般式(1)
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (16件)：
4F100AK01B
, 4F100AK25
, 4F100AK52C
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100EJ08C
, 4F100EJ54B
, 4F100EJ59B
, 4F100JB12C
, 4F100JB14B
, 4F100JL09
, 4F100JL11
, 4F100JN01
