特許

J-GLOBAL ID：201203084851672966

耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材およびその製造方法

発明者： 原田 良夫 ,  戸越 健一郎 ,  小林 啓悟
出願人/特許権者： トーカロ株式会社
代理人 (3件)： 小川 順三 ,  中村 盛夫 ,  藤谷 史朗
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-214183
公開番号（公開出願番号）：特開2012-067365
出願日： 2010年09月24日
公開日（公表日）： 2012年04月05日
要約：

【課題】半導体加工装置用部材として好適なエロージョン性に優れるサーメット溶射皮膜被覆部材とその製法を提供する。【解決手段】Ni及びNi-Cr系Ni基合金を主成分とする金属10〜90mass%とAl2O3、Y2O3、YAG等からなる酸化物90〜10mass%のサーメット溶射材料を用いて、各種プラズマ溶射法によって気孔率0.4〜10%、膜厚50〜500μmの皮膜を被覆形成する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

基材の表面に、溶射皮膜を被覆形成してなる部材において、その溶射皮膜が、90〜10mass%のNiまたはNi-Cr系Ni基合金と、10〜90mass%のY、Al、Y-Alおよび原子番号57〜71のランタノイド系元素から選ばれる1種以上の金属の酸化物と、からなるサーメッ溶射皮膜であることを特徴とする耐プラズマエロージョン性に優れる溶射皮膜被覆部材。

IPC (4件)：

C23C 4/04 ,  C23C 4/08 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/205

FI (4件)：

C23C4/04 ,  C23C4/08 ,  H01L21/302 101G ,  H01L21/205

Fターム (21件)：

4K031AA01 ,  4K031AA08 ,  4K031AB02 ,  4K031AB03 ,  4K031AB09 ,  4K031CB02 ,  4K031CB03 ,  4K031CB11 ,  4K031CB18 ,  4K031CB22 ,  4K031CB26 ,  4K031CB27 ,  4K031CB42 ,  4K031DA01 ,  4K031DA04 ,  5F004AA16 ,  5F004BB29 ,  5F004BB30 ,  5F045AA08 ,  5F045BB14 ,  5F045EB03

引用特許：

出願人引用 (2件)

• プラズマ処理容器内部材およびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-140698   出願人：トーカロ株式会社, 東京エレクトロン株式会社
• 溶射被覆金属部材の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-134282   出願人：株式会社東芝