特許
J-GLOBAL ID:201203086912023080
イオン性高分岐ポリマー及び炭素ナノ材料分散剤
発明者:
,
,
,
,
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (5件):
萼 経夫
, 宮崎 嘉夫
, 加藤 勉
, 小山 京子
, 伴 知篤
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-161021
公開番号(公開出願番号):特開2012-021100
出願日: 2010年07月15日
公開日(公表日): 2012年02月02日
要約:
【課題】炭素ナノ材料の分散剤としての応用が期待できる新規なイオン性高分岐ポリマー、並びに、炭素ナノ材料分散剤、及び炭素ナノ材料組成物を提供すること。【解決手段】分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にカルボキシル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBとを、該モノマーA及び該モノマーBの合計モル数に対して、5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させる段階と、前記重合段階の前、前記重合段階の間、又は前記重合段階に続いて、前記カルボキシル基に窒素原子含有塩基性化合物を反応させる段階とにより得られる、イオン性高分岐ポリマー、該ポリマーよりなる炭素ナノ材料分散剤、及び該分散剤を含む炭素ナノ材料組成物。【選択図】図7
請求項(抜粋):
分子内に2個以上のラジカル重合性二重結合を有するモノマーAと、分子内にカルボキシル基及び少なくとも1個のラジカル重合性二重結合を有するモノマーBとを、該モノマーA及び該モノマーBの合計モル数に対して、5モル%以上200モル%以下の重合開始剤Cの存在下で重合させる段階と、
前記重合段階の前、前記重合段階の間、又は前記重合段階に続いて、
前記カルボキシル基に窒素原子含有塩基性化合物を反応させる段階とにより得られる、
イオン性高分岐ポリマー。
IPC (8件):
C08F 8/30
, C08L 101/08
, C01B 31/02
, C08K 5/16
, C08K 5/19
, C08K 5/34
, C08F 212/36
, C08F 220/00
FI (8件):
C08F8/30
, C08L101/08
, C01B31/02 101F
, C08K5/16
, C08K5/19
, C08K5/34
, C08F212/36
, C08F220/00
Fターム (36件):
4G146AA08
, 4G146AA09
, 4G146AA12
, 4G146AB07
, 4G146AB10
, 4G146AC16B
, 4G146AC20B
, 4G146AD22
, 4G146AD23
, 4G146AD28
, 4G146AD30
, 4G146BA04
, 4G146CB10
, 4G146CB17
, 4G146CB22
, 4G146CB35
, 4G146CB36
, 4J002BC011
, 4J002BG041
, 4J002EU026
, 4J002EU046
, 4J002EU076
, 4J002EU116
, 4J002EU236
, 4J002GD00
, 4J100AB16P
, 4J100AJ02Q
, 4J100AL03Q
, 4J100BA16H
, 4J100BA17H
, 4J100CA04
, 4J100FA03
, 4J100HA08
, 4J100HA31
, 4J100HC27
, 4J100JA15
引用特許:
前のページに戻る