特許
J-GLOBAL ID：201203087046473140
X線用二次元分光素子及びそれを用いた二次元分布測定装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-174478
公開番号（公開出願番号）：特開2012-037239
出願日： 2010年08月03日
公開日（公表日）： 2012年02月23日
要約：
【課題】蛍光X線二次元分析のための、空間分解能の高いX線用二次元分光素子及び二次元分布測定装置を提供する。【解決手段】X線用二次元分光素子は分光素子を二次元に配置し、1つの面がX線入射面、他方の面がX線出射面となり、内面にX線分光用多層膜をもつ複数のセルがX線入射面からX線出射面に延びているので、X線入射面から入射した二次元X線の回折X線が入射X線の位置分解能を保ったままX線出射面から出射し、高い空間分解能の二次元分布画像を得ることが可能となる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
1つの面がX線入射面となり、前記X線入射面に対向する他の1つの面がX線出射面となっているX線用二次元分光素子であって、
前記X線入射面に直交する方向に配置され前記X線入射面の面内方向に一定の隙間をもって積層された複数の基板と、前記積層された各基板の同一面側の表面に形成されたX線分光用多層膜と、前記X線分光用多層膜とそのX線分光用多層膜が形成されている前記基板に隣接する前記基板の裏面との間に配置され、前記基板間の前記隙間を形成しているスペーサと、を備え、
前記基板は表面と裏面が平行であり、前記スペーサは前記X線入射面に直交する方向に延び、隣接する基板間の隙間では互いに間隔をもって互いに平行に形成されていることにより、前記X線分光用多層膜、そのX線分光用多層膜が形成されている前記基板に隣接する他の基板の裏面及び隣接する一対の前記スペーサにより1つの内面に前記X線分光用多層膜をもち前記X線入射面に直交する方向に延びる互いに平行な複数のセルが形成されており、該セルが前記X線入射面から入射したX線の前記X線分光用多層膜による回折X線が前記X線出射面へ出射するための通路となっているX線用二次元分光素子。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (15件)：
2G001AA01
, 2G001BA04
, 2G001CA01
, 2G001DA01
, 2G001DA02
, 2G001DA09
, 2G001EA20
, 2G001GA01
, 2G001GA06
, 2G001GA13
, 2G001HA01
, 2G001JA08
, 2G001KA01
, 2G001LA02
, 2G001SA02
