特許

J-GLOBAL ID：201203088272476387

極端紫外光源装置及びチャンバ装置

発明者： 藤本 准一 ,  若林 理 ,  西坂 敏博
出願人/特許権者： 株式会社小松製作所 ,  ギガフォトン株式会社
代理人 (4件)： 宇都宮 正明 ,  保坂 延寿 ,  渡部 温 ,  柳瀬 睦肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-265788
公開番号（公開出願番号）：特開2012-119099
出願日： 2010年11月29日
公開日（公表日）： 2012年06月21日
要約：

【課題】チャンバ内において構成部品の位置又は傾きを調整するための姿勢制御機構を最適化する。【解決手段】極端紫外光を生成するチャンバ装置は、壁部に第1の貫通孔が設けられ、内部でEUV光の生成が行われるチャンバと、チャンバ内に配置されるEUV集光ミラーと、チャンバ外に配置され、EUV集光ミラーの姿勢を制御する姿勢制御機構と、第1の貫通孔を介してEUV集光ミラーと姿勢制御機構とを接続する支持部と、第1の貫通孔を覆うように設けられ、少なくとも1つの第2の貫通孔を有するフランジと、少なくとも1つの第2の貫通孔の周囲に固定された一端と、支持部に固定された他端とを有し、支持部の側面の少なくとも一部を囲んでチャンバ内の密閉を維持する伸縮管と、を備えても良い。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

壁部に第1の貫通孔が設けられ、内部でEUV光の生成が行われるチャンバと、 前記チャンバ内に配置されるEUV集光ミラーと、 前記チャンバ外に配置され、前記EUV集光ミラーの姿勢を制御する姿勢制御機構と、 前記第1の貫通孔を介して前記EUV集光ミラーと前記姿勢制御機構とを接続する支持部と、 前記第1の貫通孔を覆うように設けられ、少なくとも1つの第2の貫通孔を有するフランジと、 前記少なくとも1つの第2の貫通孔の周囲に固定された一端と、前記支持部に固定された他端とを有し、前記支持部の側面の少なくとも一部を囲んで前記チャンバ内の密閉を維持する伸縮管と、 を備えるチャンバ装置。

IPC (2件)：

H05G 2/00 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H05G1/00 K ,  H01L21/30 531S

Fターム (9件)：

4C092AA06 ,  4C092AA10 ,  4C092AC09 ,  4C092BD01 ,  4C092BD05 ,  4C092BD17 ,  4C092BD18 ,  5F046GC03 ,  5F146GC11

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平3-288422
  
• 極端紫外光源装置の初期アライメント方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-297188   出願人：株式会社小松製作所, ギガフォトン株式会社