特許

J-GLOBAL ID：201203089768607682

モノマー、ポリマー、フォトレジスト組成物、およびフォトリソグラフィパターンを形成する方法

発明者： オーバー,マティアス・エス. ,  ペ,ヤン・チョル ,  リュー,イ ,  リー,スン-ヒョン ,  パク,ジョン・クン
出願人/特許権者： ローム・アンド・ハース・エレクトロニック・マテリアルズ,エル.エル.シー. ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー
代理人 (1件)： 特許業務法人センダ国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-000218
公開番号（公開出願番号）：特開2012-162707
出願日： 2012年01月04日
公開日（公表日）： 2012年08月30日
要約：

【課題】アセタール部分を含む(メタ)アクリラートモノマー、このモノマーから形成される単位を含むポリマー、およびこのポリマーを含むフォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】2個のアセタール環構造を有するアルコールから得られる(メタ)アクリル酸エステルモノマー。該モノマー、ポリマー、およびフォトレジスト組成物はフォトリソグラフィパターン形成に有用である。前記フォトレジスト組成物でコーティングされた基体、フォトリソグラフィパターンを形成する方法、および電子デバイスも提供する。この組成物、方法およびコーティングされた基体には、半導体デバイスの製造における特別な適用性が見いだした。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記一般式(I)のモノマー:

IPC (3件)：

C08F 20/28 ,  G03F 7/038 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

C08F20/28 ,  G03F7/038 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (28件)：

2H125AF17P ,  2H125AF38P ,  2H125AH04 ,  2H125AJ18X ,  2H125AJ55X ,  2H125AL03 ,  2H125AL22 ,  2H125AM23P ,  2H125AN11P ,  2H125AN39P ,  2H125AN42P ,  2H125AN51P ,  2H125AN82P ,  2H125BA02P ,  2H125BA26P ,  2H125CA12 ,  2H125CB09 ,  2H125CC01 ,  2H125CC15 ,  2H125FA03 ,  2H125FA05 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100BA11Q ,  4J100BC53Q ,  4J100BC59P ,  4J100FA19 ,  4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開昭57-181524
  
• 特開昭58-065411
  
• 特表平3-505688
  
• 特開昭58-176618
  
• フォトレジスト架橋剤、フォトレジスト組成物、フォトレジストパタ-ン形成方法、及び半導体素子
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-338660   出願人：現代電子産業株式会社
• レジスト用重合体、レジスト組成物、および、パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2009-257911   出願人：三菱レイヨン株式会社

引用文献：

審査官引用 (1件)

• Synthesis of Polymerizable Xylitol Derivatives