描画データの製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：池上徹真 , 須藤章 , 松山允之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-235457
公開番号（公開出願番号）：特開2012-089693
出願日： 2010年10月20日
公開日（公表日）： 2012年05月10日
要約：

【課題】荷電粒子ビームを用いて試料に図形パターンを描画するための描画データの作成方法であって、描画データのデータ量を低減することが可能な描画データの作成方法を提供する。【解決手段】同一図形種かつ同一ピッチでありながらサイズが一定間隔で大きく或いは小さくなる複数の図形パターンからなる図形パターン群を、1つのアレイとして、終了図形サイズ、隣り合う図形からの寸法差、及び開始図形と終了図形との間の寸法差のうちの1つと、図形種の識別子と、開始図形サイズと、開始図形座標と、終了図形座標と、繰り返し数と、を用いて定義されるように、描画データを作成することを特徴とする。【選択図】図6

請求項（抜粋）：

荷電粒子ビームを用いて試料に図形パターンを描画するための描画データの作成方法であって、同一図形種かつ同一ピッチでありながらサイズが一定間隔で大きく或いは小さくなる複数の図形パターンからなる図形パターン群を、1つのアレイとして、終了図形サイズ、隣り合う図形からの寸法差、及び開始図形と終了図形との間の寸法差のうちの1つと、図形種の識別子と、開始図形サイズと、開始図形座標と、終了図形座標と、繰り返し数と、を用いて定義されるように、描画データを作成することを特徴とする描画データの作成方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (2件)：

H01L21/30 541J , H01L21/30 541Q

Fターム (6件)：

5F056AA04 , 5F056AA13 , 5F056CA02 , 5F056CA05 , 5F056CA22 , 5F056CA23

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭57-122529
特開平2-170516
特開平4-181715

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