特許
J-GLOBAL ID:201203093435509311
水性シラン処理シリカ分散体
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
小林 浩
, 片山 英二
, 大森 規雄
, 鈴木 康仁
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2011-553434
公開番号(公開出願番号):特表2012-520227
出願日: 2010年03月10日
公開日(公表日): 2012年09月06日
要約:
本発明は、シラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体の製造方法であって、水性媒質中において、a)エポキシ官能性を含む、少なくとも1種のシラン化合物と、b)エポキシ官能性を有しない、コロイドシリカ粒子を改質することが可能な少なくとも1種のシラン化合物と、c)コロイドシリカ粒子とを、任意の順序で混合して、a)およびb)に由来するシラン化合物を含有するシラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体を形成するステップを含む方法に関する。本発明はまた、前記方法によって得ることが可能な分散体にも、またコーティング用途におけるその分散体の使用にも関する。
請求項(抜粋):
シラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体の製造方法であって、水性媒質中において、a)エポキシ官能性を含む、少なくとも1種のシラン化合物と、b)エポキシ官能性を有しない、コロイドシリカ粒子を改質することが可能な少なくとも1種のシラン化合物と、c)コロイドシリカ粒子とを、任意の順序で混合して、a)およびb)に由来するシラン化合物を含有するシラン処理コロイドシリカ粒子の水性分散体を形成するステップを含む方法。
IPC (7件):
C01B 33/146
, C09C 3/12
, C09C 1/28
, C09D 17/00
, C09D 7/12
, C09D 201/00
, B01J 13/00
FI (7件):
C01B33/146
, C09C3/12
, C09C1/28
, C09D17/00
, C09D7/12
, C09D201/00
, B01J13/00 B
Fターム (53件):
4G065AA02
, 4G065AB02Y
, 4G065AB11Y
, 4G065AB16Y
, 4G065AB17Y
, 4G065AB18Y
, 4G065AB21Y
, 4G065AB28Y
, 4G065BA15
, 4G065BA20
, 4G065BB01
, 4G065BB03
, 4G065CA11
, 4G065DA06
, 4G065EA01
, 4G065FA01
, 4G072AA28
, 4G072BB20
, 4G072CC01
, 4G072EE01
, 4G072GG01
, 4G072GG03
, 4G072HH18
, 4G072HH28
, 4G072QQ05
, 4G072QQ06
, 4G072UU30
, 4J037AA18
, 4J037CB23
, 4J037EE02
, 4J037EE08
, 4J037EE28
, 4J037EE43
, 4J037FF15
, 4J038BA011
, 4J038BA091
, 4J038CC041
, 4J038CE021
, 4J038CG011
, 4J038CG171
, 4J038CK031
, 4J038DL031
, 4J038EA011
, 4J038HA446
, 4J038KA08
, 4J038KA15
, 4J038MA08
, 4J038MA10
, 4J038NA04
, 4J038NA09
, 4J038NA11
, 4J038PB05
, 4J038PC06
引用特許:
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (5件)
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