特許
J-GLOBAL ID:201203099719756651

薄型偏光膜の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 籾井 孝文 ,  山元 美佐
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-199847
公開番号(公開出願番号):特開2012-058383
出願日: 2010年09月07日
公開日(公表日): 2012年03月22日
要約:
【課題】優れた光学特性を有する薄型偏光膜を製造する方法を提供すること。【解決手段】本発明の薄型偏光膜の製造方法は、熱可塑性樹脂基材上にPVA系樹脂を含む樹脂溶液を製膜し、樹脂溶液の流動性を保った状態で熱可塑性樹脂基材を第1の方向に延伸して、熱可塑性樹脂基材11上にPVA系樹脂層12が形成された積層体10を作製する工程と、積層体11を第2の方向に延伸する工程とをこの順で含む。好ましくは、第1の方向と前記第2の方向とは直交する。【選択図】図1
請求項(抜粋):
熱可塑性樹脂基材上にポリビニルアルコール系樹脂を含む樹脂溶液を製膜し、該樹脂溶液の流動性を保った状態で該熱可塑性樹脂基材を第1の方向に延伸して、該熱可塑性樹脂基材上にポリビニルアルコール系樹脂層が形成された積層体を作製する工程と、 該積層体を第2の方向に延伸する工程とを、この順で含み、 該第1の方向と該第2の方向とが直交する、薄型偏光膜の製造方法。
IPC (1件):
G02B 5/30
FI (1件):
G02B5/30
Fターム (10件):
2H149AA02 ,  2H149AB01 ,  2H149BA02 ,  2H149BA12 ,  2H149BB07 ,  2H149BB14 ,  2H149BB22 ,  2H149FA03W ,  2H149FA12Z ,  2H149FB05
引用特許:
審査官引用 (4件)
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