研究者
J-GLOBAL ID:201301022868356485
更新日: 2023年03月13日
吉田 智博
Tomohiro Yoshida
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所属機関・部署:
福岡県工業技術センター 機械電子研究所 材料技術課
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研究キーワード (6件):
めっき
, コーティング
, 窒化アルミニウム
, ダイヤモンド
, 薄膜成長
, 半導体材料
論文 (19件):
吉田智博, 内田聖也, 村澤功基, 工藤昌輝, 鳥山誉亮, 福井康雄, 櫻井正俊, 吉武剛. 反応性同軸型アークプラズマ堆積法によるAlNナノコンポジット硬質薄膜の作製. 表面技術. 2017. 68. 12. 735-737-737
YOSHIDA Tomohiro, YOSHIDA Tomohiro, UEDA Yutaro, DAIO Takeshi, TOMINAGA Aki, OKAJIMA Toshihiro, YOSHITAKE Tsuyoshi. Structural Evaluation of .BETA.-AlN Films Grown on Sapphire (0001) Substrates. Trans Mater Res Soc Jpn. 2015. 40. 3. 191-194
Yoshida Tomohiro, Ueda Yūtaro, Daio Takeshi, Tominaga Aki, Okajima Toshihiro, Yoshitake Tsuyoshi. Heteroepitaxial growth of β-AlN films on sapphire (0001) in nitrogen atmospheres by pulse laser deposition. Jpn. J. Appl. Phys. 2015. 54. 6
Tomohiro Yoshida, Yutaro Ueda, Takeshi Daio, Aki Tominaga, Toshihiro Okajima, Tsuyoshi Yoshitake. Heteroepitaxial growth of beta-AlN films on sapphire (0001) in nitrogen atmospheres by pulse laser deposition. JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS. 2015. 54. 6. 06FJ05.1-06FJ05.3
Kenji Hanada, Tomohiro Yoshida, You Nakagawa, Hiroki Gima, Aki Tominaga, Masaaki Hirakawa, Yoshiaki Agawa, Takeharu Sugiyama, Tsuyoshi Yoshitake. Hardness and modulus of ultrananocrystalline diamond/hydrogenated amorphous carbon composite films prepared by coaxial arc plasma deposition. APPLIED PHYSICS A-MATERIALS SCIENCE & PROCESSING. 2015. 119. 1. 205-210
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MISC (7件):
吉田智博. 炭素繊維強化プラスチックと炭素繊維材料 CFRP基板上へのドライプロセスを用いた導電性皮膜の開発. JETI. 2021. 69. 3
冨永亜希, 吉田智博, 花田賢志, 瀬戸山寛之, 隅谷和嗣, 吉武剛. 放射光を用いた粉末ダイヤモンドナノクラスターの構造評価. 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集. 2013. 26th. 86
上田雄太郎, 隅谷和嗣, 小林英一, 吉田智博, 吉武剛. サファイヤ(0001)基板上にエピタキシャル成長させた立方晶β-AlN薄膜の放射光を用いたXRDおよびNEXAFS測定. 日本放射光学会年会・放射光科学合同シンポジウム予稿集. 2012. 25th. 98
上田雄太郎, 吉田智博, 隅谷和嗣, 小林英一, 岡島敏浩, 冨永亜希, 吉武剛. サファイア基板上にヘテロエピタキシャル成長させた立方晶AlN薄膜のXRDおよびNEXAFS測定. 結晶成長国内会議予稿集(CD-ROM). 2012. 42nd. ROMBUNNO.10PS04
上田雄太郎, 吉田智博, 毛利聡, 隅谷和嗣, 吉武剛. PLD法によりサファイア(0001)基板上にエピタキシャル成長させた立方晶β-AlN薄膜のNEXAFS測定. 応用物理学会九州支部学術講演会講演予稿集. 2011. 37. 74
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特許 (1件):
溶融金属めっき設備及び溶融金属めっき方法
講演・口頭発表等 (18件):
高純度FeおよびSi単体ターゲットを用いた同時スパッタリング法によるβ-FeSi<sub>2</sub>膜の作製
(応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
高速度鋼基板上へ形成したAlN硬質被膜の構造解析
(応用物理学会春季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2018)
反応性同軸型アークプラズマ堆積法によるAlNナノコンポジット硬質皮膜の作製
(表面技術協会講演大会講演要旨集 2018)
反応性同軸型アークプラズマ堆積法によるナノコンポジットAlN薄膜の構造解析
(応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2017)
ナノコンポジットAlBN薄膜の硬度および膜構造に及ぼすB添加の効果
(応用物理学会秋季学術講演会講演予稿集(CD-ROM) 2017)
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学位 (1件):
博士(工学) (九州大学)
経歴 (3件):
2016/04 - 現在 福岡県工業技術センター 機械電子研究所
2013/04 - 2016/03 久留米工業高等専門学校 電気電子工学科 助教
2011/04 - 2013/03 JFEスチール株式会社 制御部制御技術室
所属学会 (2件):
表面技術協会
, 応用物理学会
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