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J-GLOBAL ID：201302204572236586   整理番号：13A0021910

高周波放電プラズマによる半導体リソグラフィ用EUV光源

著者 (8件)： 清水辰哉 (関西大) ,  大橋裕介 (関西大) ,  大江翔 (関西大) ,  青木駿行 (関西大) ,  大澤穂高 (関西大) ,  大西正視 (関西大) ,  三宅由喜夫 (関西大) ,  花谷和哉 (関西大)
資料名： 核融合エネルギー連合講演会(CD-ROM)
巻： 9th  ページ： ROMBUNNO.29A-101P  発行年： 2012年 
JST資料番号： L2753B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *紫外光源 ,  *極端紫外線 ,  *リソグラフィー ,  *高周波放電 ,  *半導体プロセス ,  回転磁場

分類 (3件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  放電装置  (BJ03040P) ,  プラズマ装置  (BJ02082I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 高周波 ,  放電プラズマ ,  半導体リソグラフィ ,  EUV光源