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J-GLOBAL ID：201302206999023446   整理番号：13A0244742

ポリ(スチレン-block-トリメチルシリルイソプレン)の合成および薄膜配向

Synthesis and Thin-Film Orientation of Poly(styrene-block-trimethylsilylisoprene)

著者 (8件)： BATES Christopher M. (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  PANTOJA Marco A. Bedolla (Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin) ,  STRAHAN Jeffrey R. (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  DEAN Leon M. (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  MUELLER Brennen K. (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  ELLISON Christopher J. (Univ. Texas at Austin, Texas) ,  NEALEY Paul F. (Univ. Wisconsin-Madison, Wisconsin) ,  WILLSON C. Grant (Univ. Texas at Austin, Texas)
資料名： Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry  (Journal of Polymer Science. Part A. Polymer Chemistry)
巻： 51  号： 2  ページ： 290-297  発行年： 2013年01月15日 
JST資料番号： C0337C  ISSN： 0887-624X  CODEN： JPLCAT  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： リビングアニオン重合により,分子量と分散性が十分に制御されたポリ(スチレン-block-トリメチルシリルイソプレン)(PS-b-TMSI)を合成した。重要な単量体であるTMSIをGrignard-型カップリング反応により合成した。ジエチルエーテル/トルエン系溶媒アニーリングにより,六角形に充填した柱状の薄膜自己集合を得ることができた。ケイ素含有TMSIブロックはPSよりも酸素反応イオンエッチングに対して耐性を有し,薄膜パターンを生成した。合成したブロック共重合体は容易な配向制御とエッチング耐性のために次世代リソグラフィー材料として期待できると結論づけた。

シソーラス用語： リビングアニオン重合 ,  ブロック共重合 ,  *ジブロック共重合体 ,  ポリスチレン ,  ジエン重合体 ,  高分子薄膜 ,  自己集合 ,  リソグラフィー ,  分子配向 ,  化学合成 ,  RIE【エッチング】 ,  芳香族炭化水素 ,  ビニル化合物

分類 (1件)： 共重合  (CG04030D)

物質索引 (2件)： 2-[(トリメチルシリル)メチル]-1,3-ブタジエン ,  スチレン

タイトルに関連する用語 (3件)： スチレン ,  薄膜 ,  配向