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J-GLOBAL ID：201302208927826350   整理番号：13A0363024

放電プラズマ焼結により作製した多孔質SiCセラミックの細孔サイズ制御

Pore-size control in porous SiC ceramics prepared by spark plasma sintering

著者 (5件)： HOTTA Mikinori (Advanced Manufacturing Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  KITA Hideki (Advanced Manufacturing Res. Inst., National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST)) ,  MATSUURA Hiroyuki (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Kyushu Univ.) ,  ENOMOTO Naoya (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Kyushu Univ.) ,  HOJO Junichi (Dep. of Applied Chemistry, Fac. of Engineering, Kyushu Univ.)
資料名： Journal of the Ceramic Society of Japan  (Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻： 120  号： 1402  ページ： 243-247 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： F0382A  ISSN： 1882-0743  CODEN： JCSJEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Al₂O₃,Y₂O₃およびAlNを添加したAr中,15MPa圧力下,50~200°C/minの放電プラズマ焼結により,多孔質SiCセラミックを1900~2000°Cで保持時間なしで作製した。SiCセラミックの空隙率,細孔サイズ,微細組織,および曲げ強さに及ぼす加熱速度,焼結助剤の影響を調べた。加熱速度の増加と共にSiC粒サイズは微細化,空隙率は増加,曲げ強さは低下した。試料の強度は加熱温度の上昇と共に増加した。1195°Cで作製した試料ではSiCの粒成長は抑制され,高空隙率(42%)および高強度(95MPa)を有した。AlN-Y₂O₃およびAlN-Al₂O₃を添加して1195°Cで作製した試料は32~39%の空隙率であった。Y₂O₃およびAl₂O₃へのAlNの添加により粒成長が抑制され,細孔サイズが低下した。作製した多孔質SiCセラミックの最大強度は167MPaであった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *セラミック ,  *炭化ケイ素 ,  多孔質体 ,  *放電焼結 ,  助剤 ,  アルミナ ,  酸化イットリウム ,  窒化アルミニウム ,  焼結性 ,  *微細構造 ,  細孔構造 ,  細孔径 ,  細孔径分布 ,  空隙率 ,  加熱速度 ,  加熱温度 ,  曲げ強さ ,  結晶粒度 ,  温度依存性 ,  *機械的性質 ,  電子顕微鏡観察 ,  放電プラズマ焼結
準シソーラス用語： *多孔質セラミック ,  焼結助剤 ,  微細組織 ,  焼結温度 ,  走査電子顕微鏡法

分類 (1件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

引用文献 (22件)：

• 1) M. Fukushima, Y. Zhou and Y. Yoshizawa, J. Membr. Sci., 339, 78–84 (2009).
• 2) M. Fukushima, Y. Zhou, H. Miyazaki, Y. Yoshizawa, K. Hirao, Y. Iwamoto, S. Yamazaki and T. Nagano, J. Am. Ceram. Soc., 89, 1523–1529 (2006).
• 3) A. K. Gain, J. K. Han, H. D. Jang and B. T. Lee, J. Eur. Ceram. Soc., 26, 2467–2473 (2006).
• 4) I.-K. Sung, S.-B. Yoon, J.-S. Yu and D.-P. Kim, Chem. Commun. (Camb.), 1480–1481 (2002).
• 5) S. Zhu, S. Ding, H. Xi and R. Wang, Mater. Lett., 59, 595–597 (2005).

タイトルに関連する用語 (4件)： 放電プラズマ焼結 ,  作製 ,  セラミック ,  細孔サイズ