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J-GLOBAL ID：201302208932825419   整理番号：13A1657973

ドレストフォトンナノポリッシングを用いた超平滑加工技術の開発

著者 (2件)： 八井崇 (東大 大学院工学系研究科) ,  大津元一 (東大 大学院工学系研究科)
資料名： レーザ加工学会誌  (Journal of Japan Laser Processing Society)
巻： 20  号： 2  ページ： 130-132  発行年： 2013年07月 
JST資料番号： L3905A  ISSN： 1881-6797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電子デバイス,光学デバイスなどあらゆる先端デバイスにおいて表面平坦化は最重要課題となっている。これは表面の凹凸によって電子や光が散乱し,損失となってしまうためである。本稿では本問題を解決する手法として,従来の機械研磨法に代わる全く新しい手法である,ドレストフォトンナノポリッシングについて解説する。本手法は,非接触加工であるため,凹凸基板に対しても適用可能あること,原理的に原子層オーダーでの平坦化が可能であること,平坦化になると自動的に加工がストップするなど,従来の機械研磨では達成できない利点が数多くある。本稿では,ガラス基板を例にドレストフォトンナノポリッシングについて解説したのち,凹凸形状を持つガラス基板の平坦化,ダイヤモンド基板の平坦化など近年の成果について紹介する。(著者抄録)

シソーラス用語： *研磨 ,  *ガラス ,  ダイヤモンド ,  *光子 ,  改変 ,  *機械工作 ,  鉱石 ,  宝石
準シソーラス用語： 平坦化

分類 (1件)： ガラスの製造  (YC02020O)

引用文献 (8件)：

• Ohtsu, M., Kobayashi, K., Kawazoe, T., Yatsui T. and Naruse, M.: Principles of Nanophotonics, Principles of Nanophotonics, Taylor & Francis, (2008).
• Kawazoe, T., Fujiwara, H., Kobayashi K. and Ohtsu, M.: Visible light emission from dye molecular grains via infrared excitation based on the nonadiabatic transition induced by the optical near field, IEEE J. Select. Top. Quant. Electron., 15 (5), (2009), 1380-1386.
• Cook, L.M., Non-Crystal, J.: Chemical processes in glass polishing, Sol 120(1-3), (1990), 152--171.
• Yatsui, T., Hirata, K., Nomura, W., Tabata, Y. and Ohtsu, M.: Realization of an ultra-flat silica surface with angstrom-scale average roughness using nonadiabatic optical near-field etching, Appl. Phys., B 93 (1), (2008), 55-57.
• Yatsui, T., Hirata, K., Tabata, Y., Nomura, W., Kawazoe, T., Naruse, M. and Ohtsu, M.: In situ real-time monitoring of changes in the surface roughness during nonadiabatic optical near-field etching, Nanotech., 21(35), (2010).

タイトルに関連する用語 (1件)： 開発