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J-GLOBAL ID:201302209466085953   整理番号:13A1197990

V2O5(001)表面でのNH3及びO2によるNOの選択的接触還元の反応機構の周期的DFT研究:競争サイト及び経路

Periodic DFT study on mechanism of selective catalytic reduction of NO via NH3 and O2 over the V2O5 (001) surface: Competitive sites and pathways
著者 (19件):
資料名:
巻: 305  ページ: 67-75  発行年: 2013年09月 
JST資料番号: H0480A  ISSN: 0021-9517  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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V2O5表面でのNH3及びO2によるNOの選択的接触還元(SCR)が空気汚染の軽減のために注目を集めている。周期的DFTレベルの理論的研究から,Lewis酸活性点は代表的なEley-Rideal機構の一つの開始点であるが,他の活性点が存在または反応中に形成され,その両方が競争してその役割を演じていることが分かった。この研究で,四要素段階からなる統合的触媒サイクル(i)NH3+NO+V2O5→N2+H2O+HV2O5,(ii)NH3+NO+HV2O5→N2+H2O+HHV2O5,(iii)NH3+NO+HHV2O5→N2+2H2O+HV2O4,及び(iv)NH3+NO+O2+HV2O4→N2+2H2O+V2O5を統一的理論モデルとして提案した。この機構は,実験及び他の理論的研究結果とよく一致し,多様な活性点に対する触媒活性の差を相対エネルギー及び障壁の高さ,サイクル中に現れる中間体及び遷移状態を数値で説明できる。ステップIに対して,Lewis酸サイトVaでOHのH移動によるHOVNH2分子の形成には高活性化エネルギー(63.6kcal/mol)が必要であるが,N2及びH2Oの放出が比較的簡単に起こる。しかし,最も期待できる経路はステップIでVbを通ることである。二重のVOHサイトの最も安定な型がステップIIIの最後でH2Oを移動し易くする経路を示していることが分かった。計算から,ステップIVは,酸素空孔及びVOHサイトは互いに反対側にあるHVt1関連経路を通して起こりやすいことが分かった。この新しい多元ステップ機構は我々にV2O5表面上でのSCR反応をより深く理解させ,SCR触媒の設計を重要サイト及び経路に関係する理論的予測を基に改良できる期待が持てることが分かった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (4件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
酸化,還元  ,  貴金属触媒  ,  反応操作(単位反応)  ,  反応工学,反応速度論 

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