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J-GLOBAL ID：201302213894498208   整理番号：13A0811164

MC3-II/GPシステム,多電荷ビーム電流が増強された中電流イオン注入装置の導入

Introduction of the MC3-II/GP system, medium current ion implanter with enhanced multi-charge beam current

著者 (14件)： KOIKE Masazumi (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  SATO Fumiaki (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  SANO Makoto (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  KAWATSU Sho (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  KARIYA Hiroyuki (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  KIMURA Yasuhiko (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  KUDO Tetsuya (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  SHIRAISHI Miyuki (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  SHINOZUKA Masamitsu (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  TAKAHASHI Yuji (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  ISHIDA Yuji (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  TSUKIHARA Mitsukuni (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  UENO Kazuyoshi (SEN Corp., Ehime, JPN) ,  SUGITANI Michiro (SEN Corp., Ehime, JPN)
資料名： AIP Conference Proceedings  (AIP Conference Proceedings)
巻： 1496  ページ： 336-339  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0071C  ISSN： 0094-243X  資料種別： 会議録 (C)
発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： GP ,  電荷 ,  ビーム電流 ,  増強 ,  イオン注入装置