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J-GLOBAL ID：201302216970545848   整理番号：13A0247892

915MHz ECRプラズマ源の開発

Development of a 915 MHz ECR plasma source

著者 (4件)： KAWAI Yoshinobu (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasugakoen 6-1, Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN) ,  UCHINO Kiichiro (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasugakoen 6-1, Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN) ,  MUTA Hiroshi (Interdisciplinary Graduate School of Engineering Sciences, Kyushu Univ., Kasugakoen 6-1, Kasuga, Fukuoka 816-8580, JPN) ,  ROEWF Tobias (NoordZug, Lange Strasse 69, 17489 Greifswald, DEU)
資料名： Vacuum  (Vacuum)
巻： 87  ページ： 123-127  発行年： 2013年01月 
JST資料番号： E0347A  ISSN： 0042-207X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 様々な磁束密度分布を得るためのTM₀₁マイクロ波による915MHz ECRプラズマを生成し,圧力及び電力の関数としてのイオン飽和電流の動径プロフィルを調べた。915MHz ECRプラズマは直径L-カットオフ密度の回りの直径200mmに亘って均一であり,発散磁場の利用で低電子温度プラズマが実現することが分かった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ECRプラズマ ,  *プラズマ源 ,  磁束密度 ,  圧力効果 ,  *イオン電流 ,  面積 ,  均一性 ,  *プラズマ密度 ,  電子温度 ,  マイクロ波放電 ,  分布
準シソーラス用語： *イオン飽和電流 ,  磁場分布 ,  大面積

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  気体放電  (BJ03020T)

タイトルに関連する用語 (2件)： ECRプラズマ ,  開発