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J-GLOBAL ID：201302217754771600   整理番号：13A1758378

EUV基板とマスクブランクの検査管理

Control of Inspection for EUV Substrates and Mask Blanks

著者 (3件)： GODWIN Milton (SEMATECH) ,  RANGANATH Teki (SEMATECH) ,  MA Andy (SEMATECH)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8681  号： Pt.1  ページ： 868112.1-868112.9  発行年： 2013年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： マスク基板とブランクの欠陥検査の管理は,プロセス及び製造装置が変ったときの,欠陥密度改善のための検出性能の一貫した基線を可能にする。目標は現在の検出限界で最終的に欠陥零を達成することにある。検出の基線を確立し十分に維持する必要がある。欠陥の検出限界は利用可能な検出装置の光学系で決まる。SEMANTECのMBDCはM1350とより進んだM7360の二種類のLasertech検出装置を用いる。監視装置が制御不能になると,検査装置に救済手段がとられる。

シソーラス用語： *半導体プロセス ,  フォトリソグラフィー ,  フォトマスク ,  *欠陥検査 ,  回路パターン形成 ,  検出限界 ,  *監視装置 ,  管理
準シソーラス用語： *マスクブランク ,  極端紫外線リソグラフィー ,  検査管理

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： EUV ,  マスクブランク ,  検査