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J-GLOBAL ID：201302223931969602   整理番号：13A0605151

Cu/Ni/GaAs(001)多層膜におけるCu/Ni膜厚比と積層周期及び磁気特性との相関

著者 (3件)： 白幡泰浩 (東京工大 応用セラミックス研) ,  伊藤満 (東京工大 応用セラミックス研) ,  谷山智康 (東京工大 応用セラミックス研)
資料名： 日本物理学会講演概要集  (日本物理学会年次大会講演概要集)
巻： 68  号： 1 第3分冊  ページ： 523  発行年： 2013年03月05日 
JST資料番号： S0671B  ISSN： 1342-8349  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *磁性薄膜 ,  *多層膜 ,  *銅 ,  *ニッケル ,  基板 ,  化合物半導体 ,  ヒ化ガリウム ,  膜厚 ,  周期構造 ,  *磁気モーメント ,  異方性

分類 (2件)： 金属薄膜  (BK14030T) ,  金属結晶の磁性  (BM06040T)

タイトルに関連する用語 (8件)： Cu ,  Ni ,  GaAs ,  多層膜 ,  膜厚 ,  周期 ,  磁気特性 ,  相関