文献

J-GLOBAL ID：201302225563098623   整理番号：13A1558222

ディップペンナノリソグラフィーによるナノアレーの印刷のためのPEDOT:PSSベースインクの合成と最適化

Synthesis and optimization of PEDOT:PSS based ink for printing nanoarrays using Dip-Pen Nanolithography

著者 (7件)： WAGNER Michal (Process Chemistry Centre, c/o Lab. of Analytical Chemistry, Åbo Akademi Univ., Biskopsgatan 8, FI-20500 Turku, FIN) ,  O’CONNELL Cathal D. (ARC Centre of Excellence for Electromaterials Sci., Intelligent Polymer Res. Inst., Innovation Campus, Univ. of ...) ,  HARMAN David G. (School of Medicine, Building 30, Campbelltown Campus Univ. of Western Sydney, Campbelltown, NSW 2560, AUS) ,  SULLIVAN Ryan (ARC Centre of Excellence for Electromaterials Sci., Intelligent Polymer Res. Inst., Innovation Campus, Univ. of ...) ,  IVASKA Ari (Process Chemistry Centre, c/o Lab. of Analytical Chemistry, Åbo Akademi Univ., Biskopsgatan 8, FI-20500 Turku, FIN) ,  HIGGINS Michael J. (ARC Centre of Excellence for Electromaterials Sci., Intelligent Polymer Res. Inst., Innovation Campus, Univ. of ...) ,  WALLACE Gordon G. (ARC Centre of Excellence for Electromaterials Sci., Intelligent Polymer Res. Inst., Innovation Campus, Univ. of ...)
資料名： Synthetic Metals  (Synthetic Metals)
巻： 181  ページ： 64-71  発行年： 2013年10月01日 
JST資料番号： C0123B  ISSN： 0379-6779  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最近の有機プリンタブルエレクトロニクスに対する関心のため,導電性ポリマー(CP)のような電気活性材料にマイクロ及びナノスケールでパターン形成する方法としてディップペン・ナノリソグラフィー(DPN)が盛んに研究されている。一般に印刷プロセスはインク基材の特性と基材へのインク転写を促進して安定化させるために必要な基本力に強く依存する。DPNプローブのナノメーター閉じ込め下での操作時にはこれらのパラメーターの制御は特に困難である。現状の市販ベースのインクはナノスケールでのDPNインク転写プロセスには適していないため,CPの印刷のためにこれらの課題に対処する一つのステップは合理的なインク設計である。本研究において水分散インクの印刷,接着及び導電性を最適化するための知られた成分を添加できるポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン)ポリ(スチレンスルホン酸)(PEDOT:PSS)ベースのインクを合成し,開発した。シリコンと金の表面について,このインクのDPNパターン形成によってサブミクロンから約160nmまでの直径を持ったPEDOT:PSS(ドット)アレーを得ることができることを示した。DPNを用いた物理吸着法によるCPパターン形成におけるこれまでの試みに比べて,これらの寸法は解像度において劇的な改良を示すものである。本研究において,インクの転写プロセスが流体の物理的特性とナノドメインでの表面力に依存するDPNにおいて特に,CPインクの合理的設計が重要であることを強調した。成分と全体的インク組成に関する知識はまた,DPNを用いたナノスケールでのCPインクのパターン形成を促すこれらの基本的事項の理解を深めることになる。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  *アレイ ,  *ナノ構造 ,  *マイクロエレクトロニクス ,  *導電性高分子 ,  *パターン形成 ,  *印刷インク ,  *水性インク ,  ポリエチレンジオキシチオフェン ,  ポリスチレンスルホン酸 ,  ポリマブレンド ,  物理吸着
準シソーラス用語： PEDOT:PSS ,  *ディップペンナノリソグラフィー ,  *ナノアレイ ,  ナノドット ,  *プリンタブルエレクトロニクス ,  電気活性高分子

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (6件)： ディップペンナノリソグラフィー ,  アレー ,  PEDOT ,  PSS ,  インク ,  最適化