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J-GLOBAL ID:201302226173304482   整理番号:13A1042846

800°C焼成前後における含フッ素スルホン酸誘導体/シリカナノコンポジットの触媒活性

著者 (4件):
資料名:
巻: 93rd  号:ページ: 815  発行年: 2013年03月08日 
JST資料番号: S0493A  ISSN: 0285-7626  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
抄録/ポイント:
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ナフィオン等の含フッ素スルホン酸誘導体存在下,テトラエトキシシランおよびシリカナノ粒子とのアルカリ性条件下におけるゾル-ゲル反応により,含フッ素スルホン酸誘導体/シリカナノコンポジットの調製を行った。本研究では,得られたコンポジットの800°C焼成前後におけるコンポジットの触媒活性について検討を行なった。(著者抄録)
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分類 (5件):
分類
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分子化合物  ,  塩基,金属酸化物  ,  その他の触媒  ,  脂肪族スルホン酸・スルフィン酸・スルフェン酸  ,  有機けい素化合物 
物質索引 (4件):
物質索引
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タイトルに関連する用語 (4件):
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