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J-GLOBAL ID：201302226480885964   整理番号：13A0038222

UV/O₃アシスト熱処理法による塗布型酸化物FETの特性向上

Improvement of wet processed ZnO FET characteristics by UV/O₃ assisted thermal treatments.

著者 (6件)： 酒井渉 (千葉大 大学院工学研究科) ,  山内博 (千葉大 大学院工学研究科) ,  國吉繁一 (千葉大 大学院工学研究科) ,  飯塚正明 (千葉大 教育) ,  酒井正俊 (千葉大 大学院工学研究科) ,  工藤一浩 (千葉大 大学院工学研究科)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 112  号： 296(OPE2012 127-133)  ページ： 7-11  発行年： 2012年11月09日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 有機ELディスプレイとして優位性を有するアクティブマトリクス駆動型の新型構造素子を提案した。また駆動用トランジスタの半導体層として塗布型ZnO系材料に着目し透明ZnOトランジスタを作製した。一般にZnO薄膜は熱処理を行うことで特性の向上が見込まれるが,プラスチック基板等に対応するためには加熱温度を可能なだけ低温化させることが望ましい。そこで今回はUV/O₃アシスト熱処理法を行い,プロセス温度の低温化を実現した。(著者抄録)

シソーラス用語： *ELディスプレイ ,  *FET【トランジスタ】 ,  化合物半導体 ,  酸化亜鉛 ,  塗膜 ,  素子構造 ,  紫外線照射 ,  オゾン処理 ,  半導体プロセス ,  設計 ,  透明材料 ,  アクティブマトリックス
準シソーラス用語： 酸化物半導体 ,  素子設計 ,  低温プロセス ,  塗布膜 ,  *有機ELディスプレイ

分類 (3件)： トランジスタ  (NC03070N) ,  発光素子  (NC03082G) ,  表示機器  (NC06030Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： O3 ,  アシスト ,  熱処理法 ,  酸化物 ,  FET