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J-GLOBAL ID：201302227785874578   整理番号：13A0020673

解離時アークで侵食された接触面の組成分布

Distribution of Composition on Contact Surfaces Eroded by Break Arcs

著者 (2件)： MIYAJI Katsuyoshi (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN) ,  SEKIKAWA Junya (Shizuoka Univ., Hamamatsu, JPN)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 112  号： 332(EMD2012 64-90)  ページ： 147-152  発行年： 2012年11月23日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： DC48V/12A抵抗回路で解離時アークを発生させる。解離時アーク発生後にEPMAで接点の表面の組成分布を解析し,以下の結果を得る。陰極および陽極に対して異なる接触面組成分布を観測する。酸素分布に対しては,接触抵抗が高い領域で酸素を観測する。酸化銀が解離時アークにより接触面で発生するはずである。酸化銀は接触抵抗を高くする要因のはずである。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *電気接点 ,  *接点現象 ,  *接点材料 ,  *アーク放電 ,  浸食 ,  化学組成 ,  電子プローブX線分析 ,  アノード ,  カソード ,  接触抵抗 ,  酸素 ,  酸化銀
準シソーラス用語： 接触面

分類 (1件)： 電気接点  (NA05070V)

引用文献 (10件)：

• Holm, R. Electric Contacts. 1967
• Slade, P. G. Electrical Contacts: Principles and Applications. 1999, 1-88
• Tamaij, T. Recover of Low Contact Resistance due to Electrical and Mechanical Breakdown of Contact.Films. Proc. 56th IEEE Holm Conference on.Electrical Contacts, Charleston 2010. xxii-xl
• Jackson, R. L. A Simplified Model of Multiscale Electrical Contact Resistance and Comparison to Existing Closed Form Models. Proc. 55th IEEE Holm Conference on Electrical Contacts, Vancouver. 2009, 27-34
• Takagi, T. Arc Discharge Phenomena in Electrical Contacts. 1995, Chapter 4

タイトルに関連する用語 (5件)： 解離 ,  アーク ,  侵食 ,  接触面 ,  組成分布