文献

J-GLOBAL ID：201302229467580517   整理番号：13A0854354

Au/Si(100)ウエハの触媒エッチングにより形成された”黒色シリコン”の光学的性質

Optical properties of “black silicon” formed by catalytic etching of Au/Si(100) wafers

著者 (2件)： MATSUI Yusuke (Graduate School of Sci. and Engineering, Gunma Univ., Kiryu, Gunma 376-8515, JPN) ,  ADACHI Sadao (Graduate School of Sci. and Engineering, Gunma Univ., Kiryu, Gunma 376-8515, JPN)
資料名： Journal of Applied Physics  (Journal of Applied Physics)
巻： 113  号： 17  ページ： 173502-173502-9  発行年： 2013年05月07日 
JST資料番号： C0266A  ISSN： 0021-8979  CODEN： JAPIAU  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： *ウエハ【IC】 ,  遷移金属触媒 ,  *エッチング ,  *ナノワイヤ ,  ケイ素 ,  表面構造 ,  濡れ ,  赤外吸収スペクトル ,  光ルミネセンス ,  発光スペクトル ,  蛍光減衰 ,  Ramanスペクトル ,  *シリコンウエハ ,  金触媒 ,  構造
準シソーラス用語： *化学エッチング ,  濡れ性

分類 (1件)： 半導体の結晶成長  (BK13040X)

タイトルに関連する用語 (7件)： Au ,  Si ,  ウエハ ,  触媒 ,  エッチング ,  黒色シリコン ,  光学的性質