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J-GLOBAL ID：201302232956532151   整理番号：13A0822740

異方性エッチングによる規則的マイクロテクスチャ面の創成(第2報)-マスクパターンの検討-

著者 (2件)： 市橋健吾 (東京工高専) ,  角田陽 (東京工高専)
資料名： 精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2013  号： 春季(CD-ROM)  ページ： ROMBUNNO.E63  発行年： 2013年02月27日 
JST資料番号： Y0914A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 高さが数μm程度で代表寸法が数から数十μmオーダの単位形状が規則的に整列した任意のマイクロテクスチャ面はさまざまな応用が期待できる。本研究では,単結晶Si基板を材料とし,マスクパターンを用い,液相異方性エッチングによって規則的マイクロテクスチャ面を作製する手法の検討を行っている。本報では,フォトリソグラフィやRIEによる前処理工程と液相異方性エッチングを用いて容易にマイクロテクスチャ面を得る手法を検討した。(著者抄録)

シソーラス用語： *テキスチャード加工 ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  単結晶 ,  エッチング ,  前処理 ,  フォトリソグラフィー ,  RIE【エッチング】 ,  ウェットエッチング
準シソーラス用語： *異方性エッチング ,  マイクロテクスチャリング ,  マスクパターン ,  *規則性 ,  単結晶Si基板 ,  液相エッチング

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  固体デバイス材料  (NC03020K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 異方性エッチング ,  規則 ,  テクスチャ ,  創成 ,  マスクパターン