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J-GLOBAL ID：201302234782357560   整理番号：13A1650985

円筒生成,光解裂可能なブロック共重合体からの線パターン

Line Patterns from Cylinder-Forming Photoelavable Block Copolymers

著者 (6件)： GU Weiyin (Univ. Massachusetts, MA, USA) ,  ZHAO Hui (Univ. Hamburg, Hamburg, DEU) ,  WEI Qingshuo (Univ. Massachusetts, MA, USA) ,  COUGHLIN E. Bryan (Univ. Massachusetts, MA, USA) ,  THEATO Patrick (Univ. Hamburg, Hamburg, DEU) ,  RUSSELL Thomas P. (Univ. Massachusetts, MA, USA)
資料名： Advanced Materials  (Advanced Materials)
巻： 25  号： 34  ページ： 4690-4695  発行年： 2013年09月14日 
JST資料番号： W0001A  ISSN： 0935-9648  CODEN： ADVMEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光解裂性のo-ニトロベンジル基を含むポリスチレン-b-ポリエチレンオキシドブロック共重合体の薄膜は偏析により線状のドメインに相分離し,365nm紫外線照射/PEOミクロドメインの除去によりポリスチレンのトレンチパターン(A)を生成した。AをテンプレートとしてPDMS溶液スピンコーティング/酸素プラズマ処理によりシリカ薄膜パターン(34nmピッチ)を形成した。電子線蒸着により金の線状パターンを形成した。走査電子顕微鏡,原子間力顕微鏡,X線回折によりキャラクタリゼーションを行った。金線状パターン(100μm長)の電流電圧特性を測定した。

シソーラス用語： *ジブロック共重合体 ,  ポリスチレン ,  ポリエチレンオキシド ,  *パターン形成 ,  芳香族ニトロ化合物 ,  高分子薄膜 ,  偏析 ,  ミクロドメイン ,  *ミクロ相分離 ,  紫外線照射 ,  *光解離 ,  トレンチカット【加工】 ,  *鋳型反応 ,  ポリジメチルシロキサン ,  スピンコーティング ,  プラズマ ,  プラズマエッチング ,  電子ビーム蒸着 ,  金 ,  走査電子顕微鏡 ,  原子間力顕微鏡 ,  X線回折 ,  電流電圧特性 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  PDMS【重合体】 ,  テンプレート【鋳型反応】 ,  ミクロ偏析 ,  酸素プラズマ ,  電子線蒸着

分類 (4件)： 高分子の分解,劣化  (CG03010A) ,  高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (2件)： 解 ,  ブロック共重合体