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J-GLOBAL ID：201302235165483504   整理番号：13A0357222

SKD11基板上に作製したCrN膜の密着性評価

著者 (2件)： 中西亮太 (岡山県工技セ) ,  國次真輔 (岡山県工技セ)
資料名： 岡山県工業技術センター報告  (Report of Industrial Technology Center of Okayama Prefecture)
号： 38  ページ： 35-36  発行年： 2012年07月 
JST資料番号： Z0392B  ISSN： 0386-149X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： SKD11上にPVD成膜装置を用いてCrN膜を成膜し,密着性を向上させるためArボンバード処理を行った。CrN膜の配向性及びArボンバード処理時間が密着性に及ぼす影響を調べた。CrN膜の作製では,Arボンバード処理時間を変えてエッチング量を変化させ,基板中の炭化物と基板の形状を測定した。ロックウェル試験機及びスクラッチ試験機を用いて,密着性を評価した。CrN膜の密着性に関して,ボンバード時間が15または45分と比較して75分では密着性が悪化した。また(111)面優先配向膜よりも(200)面優先配向膜の方が密着性が高かった。

シソーラス用語： *工具鋼 ,  高炭素合金鋼 ,  蒸着膜 ,  *クロム化合物 ,  *窒化物 ,  *密着性 ,  イオン衝突 ,  アルゴン ,  優先配向 ,  イオンエッチング ,  引かき試験 ,  硬さ試験 ,  加工時間
準シソーラス用語： SKD11 ,  窒化クロム

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

引用文献 (4件)：

• 1) 角谷浩,河鰭実昌,大見裕司;デンソーテクニカルレビュー,6(2001)59.
• 2) 中西亮太,國次真輔;表面技術協会第124回講演大会講演要旨集(2011)
• 3) 中西亮太,國次真輔;表面技術協会第125回講演大会講演要旨集(2012)
• 4) 神田一隆,嶋田安広,蓮井俊介;福井工業大学研究紀要,39(2009)115.

タイトルに関連する用語 (4件)： SKD11 ,  作製 ,  密着性 ,  評価