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J-GLOBAL ID：201302235769900499   整理番号：13A1829546

金属酸化物の原子層堆積の間の粗度発展

Roughness evolution during the atomic layer deposition of metal oxides

著者 (5件)： PREMKUMAR Peter Antony (Imec, B-3001 Leuven, BEL) ,  DELABIE Annelies (Imec, B-3001 Leuven, BEL) ,  RODRIGUEZ Leonard N. J. (Imec, B-3001 Leuven, BEL) ,  MOUSSA Alain (Imec, B-3001 Leuven, BEL) ,  ADELMANN Christoph (Imec, B-3001 Leuven, BEL)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 31  号： 6  ページ： 061501-061501-5  発行年： 2013年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Al₂O₃,NiOとHfO₂の原子層堆積(ALD)の間の表面粗度の発展を原子間力顕微鏡と非鏡面X反射率により研究した。結果は, ALDの間,薄膜の結晶性が粗度発展で重要な役割を演じることを示した。非晶質酸化物薄膜のALDは粗度強化なしで,開始表面の複写を示し,多結晶酸化物薄膜のALDは強い変則的な粗度の薄膜厚み依存性になる。この挙動を吸着サイト密度の空間変化を考慮に入れたモデルで説明した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *酸化アルミニウム ,  *酸化ハフニウム ,  *堆積 ,  原子層エピタクシー ,  *粗度 ,  原子間力顕微鏡 ,  X線反射 ,  薄膜 ,  結晶

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (4件)： 金属酸化物 ,  原子層堆積 ,  粗度 ,  発展