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J-GLOBAL ID：201302235996204849   整理番号：13A1615984

エッジを制御した窒素ドープグラファイトモデル触媒の調製

著者 (6件)： 秋葉千聖 (筑波大) ,  川原井圭一 (筑波大) ,  櫻井雅崇 (筑波大) ,  郭東輝 (筑波大) ,  近藤剛弘 (筑波大) ,  中村潤児 (筑波大)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集  (触媒討論会(A)講演予稿集)
巻： 112th  ページ： 57  発行年： 2013年09月11日 
JST資料番号： S0874A  ISSN： 1343-9936  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 窒素ドープグラファイトにおける酸素還元反応の活性点と起源を明らかにするため,窒素種と窒素量を制御したモデル触媒の調製を試みた。原子間力顕微鏡(AFM)とX線光電子分光(XPS)による解析の結果,窒素イオンエッチング法によってHOPG表面に溝を掘り窒素をドープすることで,ピリジニック窒素が支配的なモデル触媒を窒素の量を制御して調製可能であることがわかった。(著者抄録)

シソーラス用語： *グラファイト ,  *触媒 ,  *炭素材 ,  *還元 ,  *触媒活性 ,  *触媒調製 ,  原子間力顕微鏡 ,  顕微鏡観察 ,  X線光電子スペクトル ,  *イオンエッチング ,  *表面構造 ,  ドーピング ,  *窒素 ,  高配向性熱分解グラファイト ,  窒素複素環化合物 ,  *カーボンアロイ触媒 ,  *ナノグラフェン ,  ピリジン類 ,  *モデル触媒 ,  *酸素還元 ,  *構造
準シソーラス用語： HOPG ,  *酸素還元反応

分類 (3件)： 触媒の調製  (CB06110P) ,  炭素とその化合物  (YB02060D) ,  界面化学一般  (CB12010J)

タイトルに関連する用語 (5件)： エッジ ,  窒素ドープ ,  グラファイト ,  モデル触媒 ,  調製