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J-GLOBAL ID：201302236866153823   整理番号：13A1038547

配位高分子の内部修飾によって誘起される高速プロトン拡散

著者 (5件)： 上坪祐介 ,  堀毛悟史 ,  福島知宏 ,  犬飼宗弘 ,  北川進
資料名： 日本化学会講演予稿集  (日本化学会春季年会講演予稿集)
巻： 93rd  号： 2  ページ： 635  発行年： 2013年03月08日 
JST資料番号： S0493A  ISSN： 0285-7626  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 配位高分子の内部修飾を行うことにより,プロトンの拡散が高速化された。その高速プロトン拡散の挙動を拡散NMR法を用いることにより評価した。(著者抄録)

シソーラス用語： 導体 ,  *プロトン伝導 ,  多孔質体 ,  NMR【磁気共鳴】 ,  拡散係数 ,  *カルシウム錯体 ,  アクア錯体 ,  クロロ錯体 ,  リチウム ,  *包接化合物 ,  水分子 ,  スピンエコー ,  化学修飾 ,  エノール ,  エノン ,  脂環式アルコール ,  脂環式ケトン ,  ジオール ,  ジケトン ,  ヒドロキシケトン ,  プロトン伝導体 ,  *配位重合体【樹脂】
準シソーラス用語： *配位重合体

分類 (2件)： 固体中の拡散一般  (BL06021L) ,  非遷移金属元素の錯体  (CE01030C)

物質索引 (1件)： 四角酸

タイトルに関連する用語 (5件)： 配位高分子 ,  修飾 ,  誘起 ,  プロトン ,  拡散