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J-GLOBAL ID：201302239566958187   整理番号：13A0228961

精密にプロセス制御した同時スパッタリングによるNbドープTiO₂膜の大面積蒸着

Deposition of Nb-Doped TiO₂ Films on Large Area by Co-Sputtering with Precise Process Control

著者 (2件)： FIETZKE F. (Fraunhofer Inst. Electron Beam and Plasma Technol. FEP, Dresden, DEU) ,  JUNGHAEHNEL M. (Fraunhofer Inst. Electron Beam and Plasma Technol. FEP, Dresden, DEU)
資料名： Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters  (Proceedings of the Annual Technical Conference. Society of Vacuum Coaters)
巻： 55th  ページ： 547-551  発行年： 2012年 
JST資料番号： E0063B  ISSN： 0737-5921  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiおよびTi₈₀Nb₂₀の2種類のターゲットを用いて同時マグネトロンスパッタリングにより,膜厚50~250nmのNbドープTiO₂透明導電膜を作製した。それぞれのターゲットのスパッタパルス時間,反応のための酸素量をオンラインで精密に制御した。それによって薄膜の組成を0.1%程度まで再現性良く制御できた。最適組成の薄膜を450°Cで焼鈍した場合,光学的及び電気的性質は市販のものに比べて遜色がなかった。本法は市販のものに比べて,広い領域をより高速で蒸着できる。

シソーラス用語： *酸化チタン ,  マグネトロンスパッタリング ,  ターゲット ,  チタン ,  チタン合金 ,  ニオブ含有合金 ,  膜厚 ,  *ドーピング ,  ニオブ ,  *透明導電膜 ,  酸素 ,  プロセス制御 ,  *スパッタ蒸着 ,  化学組成 ,  焼なまし ,  堆積速度

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (7件)： プロセス制御 ,  同時スパッタリング ,  Nb ,  ドープ ,  TiO2 ,  大面積 ,  蒸着