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J-GLOBAL ID：201302241466172032   整理番号：13A1418509

UVナノインプリントリソグラフィー フレキシブルモールドの構造,材料,および作製

UV-Nanoimprint Lithography: Structure, Materials and Fabrication of Flexible Molds

著者 (2件)： LAN Hongbo (Qingdao Technological Univ., Qingdao, CHN) ,  LIU Hongzhong (Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, CHN)
資料名： Journal of Nanoscience and Nanotechnology  (Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 13  号： 5  ページ： 3145-3172  発行年： 2013年05月 
JST資料番号： W1351A  ISSN： 1533-4880  CODEN： JNNOAR  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 文献レビュー  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： フレキシブルモールドを用いた紫外ナノインプリントリソグラフィー(UV-NIL)は非平面を含む表面に大面積のマイクロ/ナノパターンを低コストかつ高スループットで作製する有望な技術である。このソフトUV-NILの原理とプロセスを解説した後,その最重要素子であるフレキシブルモールドのいろいろな型,用いた材料(主として高分子),製作法について包括的展望を与え,現在の主要な進歩を述べた。材料に関しては,剛性と柔軟性のバランス,低粘性,高ガス浸透性などの重要性を指摘した。更に,克服すべき重要課題として,フレキシブルモールドの変形とその制御,ウエハレベルの大面積マスタモールドの製作について詳しく述べた。フレキシブルモールドの今後の高性能化には所要の性質を併せ持つ複合材料の開発が必要なことや,商用化や産業応用のために必要なフレキシブルモールドの長寿命化の方策についても述べた。

シソーラス用語： *リソグラフィー ,  パターン形成 ,  *型 ,  押付成形 ,  *ナノメータ加工 ,  半導体プロセス ,  三次元 ,  アスペクト比 ,  *ポリジメチルシロキサン ,  ポリメタクリル酸メチル ,  ポリエチレンテレフタレート ,  *光重合型樹脂 ,  *紫外線照射 ,  フッ素化重合体 ,  複合膜 ,  スピンコーティング ,  スループット ,  成形型 ,  芳香族ポリエステル
準シソーラス用語： *UVナノインプリントリソグラフィー ,  *ソフトリソグラフィー ,  *フレキシブルモールド

分類 (3件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  押出成形  (YH04040N) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

タイトルに関連する用語 (3件)： UVナノインプリントリソグラフィー ,  モールド ,  作製