TANIGAWA Hironobu について
Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN について
SUZUKI Tetsuhiro について
Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN について
FUKAMI Shunsuke について
Center for Spintronics Integrated Systems, Tohoku Univ., Sendai, Miyagi 980-8577, JPN について
SUEMITSU Katsumi について
Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN について
OHSHIMA Norikazu について
Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN について
KARIYADA Eiji について
Production and Technol. Unit, Renesas Electronics Corp., Sagamihara, Kanagawa 252-5298, JPN について
Applied Physics Letters について
運動 について
磁壁 について
多層 について
磁性薄膜 について
コバルト について
ニッケル について
磁化 について
磁気ヒステリシス について
スパッタ蒸着 について
マグネトロンスパッタリング について
基板 について
ケイ素 について
被覆層 について
膜厚 について
電流密度 について
二酸化ケイ素 について
シリカ について
磁壁運動 について
金属薄膜 について
金属の磁区及び磁化過程 について
異方性 について
CO について
Ni について
多層 について
電流誘起 について
磁壁運動 について
厚さ依存性 について