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J-GLOBAL ID：201302243450881869   整理番号：13A1808878

(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金とオゾンを用いての白金原子層の低温蒸着

Low-Temperature Atomic Layer Deposition of Platinum Using (Methylcyclopentadienyl)trimethylplatinum and Ozone

著者 (9件)： DENDOOVEN Jolien (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  RAMACHANDRAN Ranjith K. (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  DEVLOO-CASIER Kilian (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  RAMPELBERG Geert (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  FILEZ Matthias (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  POELMAN Hilde (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  MARIN Guy B. (Ghent Univ., Ghent, BEL) ,  FONDA Emiliano (Synchrotron SOLEIL, Gif-sur-Yvette, FRA) ,  DETAVERNIER Christophe (Ghent Univ., Ghent, BEL)
資料名： Journal of Physical Chemistry C  (Journal of Physical Chemistry C)
巻： 117  号： 40  ページ： 20557-20561  発行年： 2013年10月10日 
JST資料番号： W1877A  ISSN： 1932-7447  CODEN： JPCCCK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 原子層蒸着(ALD)は複雑な3D形状を持ち,表面反応が限られている表面に制御された蒸着を行うことができ,薄い共形層やナノ粒子の分散された層を得ることができる。白金は優れた電気的,触媒的特性を持つが高価であるので,白金ALDはナノエレクトロニクス,電気化学,触媒,センサーの分野で興味を集めている。本論文においては(メチルシクロペンタジエニル)トリメチル白金とオゾンをもちいる白金薄膜成長の速度論,結晶構造,電気抵抗,純度について研究した。オゾンの高い酸化力にもかかわらず100°Cの蒸着において純粋な白金薄膜が得られた。したがって熱的に不安定な基質への白金の蒸着に適した蒸着法である。

シソーラス用語： *白金錯体 ,  配位子 ,  *オゾン ,  *真空蒸着 ,  薄膜成長 ,  化学蒸着 ,  化学反応 ,  *シクロペンタジエニル錯体 ,  *白金 ,  有機白金化合物
準シソーラス用語： ALD【蒸着】 ,  *原子層化学蒸着 ,  低温反応 ,  *熱蒸着

分類 (2件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  金属薄膜  (BK14030T)

物質索引 (1件)： 1-メチル-1,3-シクロペンタジエン

タイトルに関連する用語 (5件)： 白金 ,  オゾン ,  原子層 ,  低温 ,  蒸着