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J-GLOBAL ID：201302243578643863   整理番号：13A0060513

金属表面における分子ビームによる酸化・窒化反応制御とその放射光光電子分光観察 II

著者 (9件)： 寺岡有殿 (原子力機構) ,  井上敬介 (兵庫県大 大学院) ,  神農宗徹 (兵庫県大 大学院) ,  HARRIES James (原子力機構) ,  岡田隆太 (筑波大 大学院) ,  岩井優太郎 (兵庫県大) ,  高岡毅 (東北大 多元物質科研) ,  吉越章隆 (原子力機構) ,  米田忠弘 (東北大 多元物質科研)
資料名： 日本学術会議材料工学連合講演会講演論文集  (日本学術会議材料工学連合講演会論文集)
巻： 56th  ページ： 360-361  発行年： 2012年10月29日 
JST資料番号： L2574A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 金属 ,  *表面 ,  分子ビーム ,  *酸化 ,  *窒化 ,  反応制御 ,  シンクロトロン放射 ,  光電子分光法 ,  薄膜成長 ,  並進エネルギー ,  超音速分子ビーム ,  振動エネルギー ,  輝度 ,  高分解能 ,  軟X線 ,  化学結合 ,  ニッケル ,  アルミニウム ,  表面反応
準シソーラス用語： シンクロトロン放射光電子分光 ,  高輝度 ,  反応ガス ,  放射光

分類 (2件)： 原子ビーム,分子ビーム  (BH01020Z) ,  固-気界面一般  (CB12041H)

タイトルに関連する用語 (8件)： 金属表面 ,  分子ビーム ,  酸化 ,  窒化 ,  反応制御 ,  放射光 ,  光電子分光 ,  観察