MIYAKE Keita について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
SHIGEKAWA Ryota について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
ITO Tomoko について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
ISOBE Michiro について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
KARAHASHI Kazuhiro について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
FUKASAWA Masanaga について
Sony Corp., JPN について
TATSUMI Tetsuya について
Sony Corp., JPN について
HAMAGUCHI Satoshi について
Osaka Univ., Osaka, JPN について
Proceedings of International Symposium on Dry Process について
脂肪族フッ素化合物 について
分子動力学 について
計算機シミュレーション について
窒化ケイ素 について
スパッタリング について
収率 について
緩和現象 について
熱処理 について
エッチング について
プラズマ処理 について
プリント基板 について
高分子 について
深さ分布 について
フルオロカーボン について
分子動力学シミュレーション について
熱緩和 について
基板材料 について
確率力学 について
トランジスタ について
分子動力学 について
Md について
シミュレーション について
ハイドロフルオロカーボン について
イオン について
窒化ケイ素 について
スパッタリング収率 について
評価 について
熱緩和 について
過程 について
モデリング について