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J-GLOBAL ID:201302257239825937   整理番号:13A0980610

酸化物単結晶基板上のPt薄膜成長に及ぼすステップ端の影響

Effect of step edges on the growth of Pt thin films on oxide single-crystal substrates
著者 (6件):
資料名:
巻: 121  号: 1411  ページ: 278-282 (J-STAGE)  発行年: 2013年 
JST資料番号: F0382A  ISSN: 1882-0743  CODEN: JCSJEW  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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酸化物単結晶基板上のPt薄膜成長に及ぼすステップ端の影響を調べるため,パルスレーザ堆積によりSrTiO3(100),ルチル型TiO2(100),およびAl2O3(11-20)ステップ表面にPt膜を673Kおよび973Kで成長した。673KにおけるSrTiO3では,ステップ端による膜成長への顕著な影響は見られなかった。しかし,973Kにおけるテラス上に比べ,ステップ端ではPt粒サイズが粗大であった。予測したPtの表面拡散長さは973Kにおける平均テラス幅より長く,673Kにおけるそれより短かった。同様な成長は973KにおけるTiO2でも観察されたが,Al2O3の場合にはステップ端に起因する影響は不明であった。Pt拡散長さはTiO2上のテラス幅より長く,Al2O3上より短いと予測された。ステップ端の影響はPt表面拡散を考慮して理解できた。(翻訳著者抄録)
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