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J-GLOBAL ID：201302258374573332   整理番号：13A1074275

大気圧走査電子顕微鏡による高分子界面のその場空間観察

著者 (16件)： 樋口剛志 (JST-ERATO) ,  樋口剛志 (九大 先導物質化研) ,  村上大樹 (JST-ERATO) ,  村上大樹 (九大 先導物質化研) ,  西田仁 (JST-ERATO) ,  西田仁 (九大 先導物質化研) ,  西山英利 (日本電子) ,  須賀三雄 (日本電子) ,  渡邊宏臣 (JST-ERATO) ,  渡邊宏臣 (九大 先導物質化研) ,  小林元康 (JST-ERATO) ,  小林元康 (九大 先導物質化研) ,  陣内浩司 (JST-ERATO) ,  陣内浩司 (九大 先導物質化研) ,  高原淳 (JST-ERATO) ,  高原淳 (九大 先導物質化研)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 62  号： 1  ページ： ROMBUNNO.3PD042  発行年： 2013年05月14日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *走査電子顕微鏡 ,  *気圧 ,  *その場観察 ,  *界面 ,  ポリメタクリル酸エステル ,  原子移動ラジカル重合 ,  銅触媒 ,  窒化ケイ素 ,  高分子ブラシ ,  表面反応 ,  表面改質 ,  高分子膜 ,  臭化物 ,  銅化合物
準シソーラス用語： ATRP【重合】 ,  臭化銅(I) ,  *大気圧 ,  *大気圧走査電子顕微鏡 ,  窒化シリコン ,  表面開始重合

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  界面化学一般  (CB12010J)

物質索引 (3件)： 4,4′-ジメチル-2,2′-ビピリジン ,  メタクリル酸3-スルホプロピル ,  ビス[11-[(2-ブロモイソブチリル)オキシ]ウンデシル]ペルジスルフィド

タイトルに関連する用語 (4件)： 大気圧走査電子顕微鏡 ,  高分子 ,  界面 ,  観察