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J-GLOBAL ID：201302258917833860   整理番号：13A1335031

サブマイクロメーターおよびナノメーターサイズのガラス密閉白金電極へのナノスケール損傷の起源

Origins of Nanoscale Damage to Glass-Sealed Platinum Electrodes with Submicrometer and Nanometer Size

著者 (8件)： NIORADZE Nikoloz (Univ. Pittsburgh, Pennsylvania, USA) ,  CHEN Ran (Univ. Pittsburgh, Pennsylvania, USA) ,  KIM Jiyeon (Univ. Pittsburgh, Pennsylvania, USA) ,  KIM Jiyeon (Univ. Texas at Austin, TX) ,  SHEN Mei (Univ. Pittsburgh, Pennsylvania, USA) ,  SHEN Mei (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL) ,  SANTHOSH Padmanabhan (Inst. Technol. Tallaght, Dublin, IRL) ,  AMEMIYA Shigeru (Univ. Pittsburgh, Pennsylvania, USA)
資料名： Analytical Chemistry  (Analytical Chemistry)
巻： 85  号： 13  ページ： 6198-6202  発行年： 2013年07月02日 
JST資料番号： A0395A  ISSN： 0003-2700  CODEN： ANCHAM  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： サブマイクロメーターおよびナノメーターサイズのガラス密封Pt超マイクロ電極(UME)は走査型電気化学顕微鏡(SECM)に使用されるが,容易に損傷を受け,それによって応答が低下することを始めて報告した。サブマイクロメーターサイズのボロシリケート密封UMEの損傷をSEMによって調べた。これらのUMEは,静電放電(ESD)あるいは電気化学エッチングによって,容易にダメージを受けた。ダメージを受けた白金電極は電極材によって汚染されていることが走査電子顕微鏡およびエネルギー分散X線分光法によって観察された。損傷を受けた電極をサイクリックボルタンメトリーによって調べた。静電放電による損傷は電極の接地によって防止できた。電気化学エッチングによる損傷は電圧の制御によって防止できた。

シソーラス用語： 走査電子顕微鏡 ,  エネルギー分散X線分光分析 ,  走査型プローブ顕微鏡 ,  *微小電極 ,  放電 ,  エッチング ,  白金電極 ,  *機構 ,  サイクリックボルタンメトリー
準シソーラス用語： マイクロ電極 ,  静電放電 ,  走査型電気化学顕微鏡 ,  *損傷機構 ,  電気化学エッチング

分類 (1件)： 電気化学反応  (CB07050F)

タイトルに関連する用語 (9件)： サブ ,  マイクロメーター ,  ナノメーターサイズ ,  ガラス ,  密閉 ,  白金電極 ,  ナノスケール ,  損傷 ,  起源