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J-GLOBAL ID：201302259080639480   整理番号：13A1829564

製造便宜性のための5nm級電子光学マイクロカラムの設計の改善及びその特性

Improved design of 5 nm class electron optical microcolumn for manufacturing convenience and its characteristics

著者 (4件)： OH Tae-sik (Dep. of Information Display, Coll. of Engineering, Sun Moon Univ., Tangjeong-myun, Asan-city, Chungnam 336-708, KOR) ,  KIM Dae-wook (Dep. of Information Display, Coll. of Engineering, Sun Moon Univ., Tangjeong-myun, Asan-city, Chungnam 336-708, KOR) ,  AHN Seungjoon (Dep. of Information Display, Coll. of Engineering, Sun Moon Univ., Tangjeong-myun, Asan-city, Chungnam 336-708, KOR) ,  SEOB KIM Ho (Dep. of Information Display, Coll. of Engineering, Sun Moon Univ., Tangjeong-myun, Asan-city, Chungnam 336-708, KOR)
資料名： Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films  (Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻： 31  号： 6  ページ： 061601-061601-6  発行年： 2013年11月 
JST資料番号： C0789B  ISSN： 0734-2101  CODEN： JVTAD6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高いプローブビーム電流をもつ,ターゲット面における小さいプローブビームサイズの達成は,電気光学マイクロカラムのような電子ビーム装置の開発における重要な課題である。許容できる電流の~10nm級プローブビームサイズはすでに報告されているが,それは,一連の最新の技術により達成した。本研究において,比較的利便性のある製造プロセスを通して組み立てることのできる~5nm級電子光学マイクロカラムの設計の改善についてした。改善設計の長所は,引き出し電極の開口直径を単純に拡大し,付加的な補助電極を挿入することにより,製造プロセスにおける複雑性を軽減できることであった。設計パラメータ及び改善された電子光学マイクロカラムの性能に関する分析の結果を,シミュレーション研究を通して議論した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *構造 ,  *設計 ,  生産工程 ,  電子光学 ,  *電極 ,  *開口 ,  シミュレーション ,  プローブ ,  サイズ効果
準シソーラス用語： *マイクロカラム ,  製造プロセス ,  利便性 ,  ビームサイズ

分類 (1件)： 粒子光学一般  (BD02010J)

タイトルに関連する用語 (4件)： 便宜性 ,  電子光学 ,  カラム ,  設計