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J-GLOBAL ID：201302260552739589   整理番号：13A0038184

テラヘルツ波帯MKID用高品質薄膜の作製

著者 (4件)： 日下康平 (山形大 大学院理工学研究科) ,  SAJJA M.K. (山形大 大学院理工学研究科) ,  山田博信 (山形大 大学院理工学研究科) ,  中島健介 (山形大 大学院理工学研究科)
資料名： 応用物理学会東北支部学術講演会講演予稿集  (応用物理学会東北支部学術講演会論文集)
巻： 67th  ページ： 198-199  発行年： 2012年12月06日 
JST資料番号： L1473A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： 電磁波 ,  二次元 ,  *ニオブ化合物 ,  *窒化物 ,  超伝導体 ,  スパッタ蒸着 ,  *超伝導薄膜 ,  膜厚 ,  基板温度 ,  共振器 ,  コヒーレンス長 ,  *赤外検出器 ,  テラヘルツ波
準シソーラス用語： MKID ,  マイクロ波共振器 ,  検出器アレイ ,  *窒化ニオブ

分類 (2件)： その他の超伝導体の物性  (BM04025Q) ,  赤外・遠赤外領域の測光と光検出器  (BD07032W)

タイトルに関連する用語 (4件)： テラヘルツ波 ,  高品質 ,  薄膜 ,  作製