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J-GLOBAL ID：201302260920731399   整理番号：13A1320000

VHF PECVDプロセスを用いた非晶質から極ナノ結晶性ケイ素膜成長へのアルゴン希釈による影響

Influence of argon dilution on the growth of amorphous to ultra nanocrystalline silicon films using VHF PECVD process

著者 (7件)： GOPE Jhuma (Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...) ,  GOPE Jhuma (Dep. of Physics, Banaras Hindu Univ., Varanasi 221 005, IND) ,  KUMAR Sushil (Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...) ,  SUDHAKAR S. (Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...) ,  LODHI Kalpana (Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...) ,  RAUTHAN C.m.s. (Physics of Energy Harvesting Div., CSIR-Network of Institutes for Solar Energy, National Physical Lab., Dr. K.S. ...) ,  SRIVASTAVA P.c. (Dep. of Physics, Banaras Hindu Univ., Varanasi 221 005, IND)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 577  ページ： 710-716  発行年： 2013年11月15日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 水素化ケイ素(Si:H)薄膜を非常に高い周波数プラズマ励起化学蒸着(VHF PECVD)により種々のAr濃度(f_ar)で希釈したシラン(SiH₄)から堆積させた。Si:H膜の成長と性質へのAr濃度(53~95%)による影響を調べた。f_ar=53%と63%で成長させたデバイス品質の非晶質ケイ素膜は5桁の感光性を示した。結晶の核生成はf_ar=82%で始まったが,非晶質(a-Si:H)と極ナノ結晶性ケイ素薄膜(ultra nc-Si:H)の混合相はf_ar=87%で成長した。結晶の核生成と成長はAFM画像で明確に観察できた。f_ar=82%と87%で成長させた膜のTOモードは各々分割とブルーシフトを示した。これらのSi:H膜の水素結合様式の変化がFTIR測定で認められた。加熱と冷却時の温度依存性の暗伝導度の違いは膜中のクラスタ化したSi-H結合の割合が増加するにつれて減少した。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ナノ結晶 ,  *ケイ素 ,  *蒸着膜 ,  *プラズマCVD ,  *薄膜成長 ,  *アルゴン ,  *希釈 ,  水素 ,  ドーピング ,  水素化 ,  シラン ,  基板 ,  ガラス ,  感受性 ,  核形成 ,  相 ,  暗伝導 ,  温度依存性 ,  加熱 ,  クラスタ化 ,  化学結合
準シソーラス用語： Corningガラス ,  Si-H結合 ,  ガラス基板 ,  光感受性 ,  混合相

分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (9件)： VHF ,  PECVD ,  プロセス ,  非晶質 ,  ナノ結晶 ,  ケイ素 ,  膜成長 ,  アルゴン ,  希釈