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J-GLOBAL ID：201302261607704034   整理番号：13A0098889

高Arガス圧下のスパッタリングプロセスにおける不純物ガス分析

Impurity gas analysis in the sputtering process under high Ar gas pressure

著者 (4件)： SASAKI Shingo (Ichinoseki Nat’l Coll. Technol., Ichinoseki, JPN) ,  ISHIBASHI Shinichi (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SAITO Shin (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  TAKAHASHI Migaku (Tohoku Univ., Sendai, JPN)
資料名： 日本磁気学会学術講演概要集  (Abstracts. Annual Conference on Magnetics in Japan)
巻： 36th  ページ： 113  発行年： 2012年 
JST資料番号： Y0056A  ISSN： 1882-2959  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

シソーラス用語： ガス分析 ,  不純物 ,  *スパッタリング ,  圧力 ,  アルゴン ,  *スパッタ蒸着

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： Arガス ,  圧 ,  スパッタリング ,  プロセス ,  不純物ガス ,  分析