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J-GLOBAL ID：201302261659683655   整理番号：13A0350990

大きなアルゴンクラスターAr_n⁺,C₆₀⁺およびCs⁺スパッタリングイオンを用いた多層アミノ酸膜のTOF-SIMS深さプロファイリング:比較研究

TOF-SIMS depth profiling of multilayer amino-acid films using large Argon cluster Ar_n⁺, C₆₀⁺ and Cs⁺ sputtering ions: A comparative study

著者 (9件)： WEHBE N. (Univ. Namur, Namur, BEL) ,  TABARRANT T. (Univ. Namur, Namur, BEL) ,  BRISON J. (Univ. Namur, Namur, BEL) ,  MOUHIB T. (Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL) ,  DELCORTE A. (Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL) ,  BERTRAND P. (Univ. Catholique de Louvain, Louvain-la-Neuve, BEL) ,  MOELLERS R. (ION-TOF GmbH, Muenster, DEU) ,  NIEHUIS E. (ION-TOF GmbH, Muenster, DEU) ,  HOUSSIAU L. (Univ. Namur, Namur, BEL)
資料名： Surface and Interface Analysis  (Surface and Interface Analysis)
巻： 45  号： 1  ページ： 178-180  発行年： 2013年01月 
JST資料番号： E0709A  ISSN： 0142-2421  CODEN： SIANDQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 深さプロファイリングモデル多層膜に対して,Ar₁₇₀₀⁺,C₆₀⁺およびCs⁺などの様々なスパッタリングイオンの性能を比較した。多層膜を生成させるために2つの異なるアミノ酸を清浄なシリコンウエハ上へ蒸発させ,得られた膜をデュアルビームモードを用いて深さプロファイリングした。有機膜を深さプロファイリングするための各イオンの能力の比較に加えて,深さ分解能,すなわち界面広がりなどの非常に重要なパラメターもこれらのリファレンス試料を用いて評価した。得られた結果から,大質量アルゴンクラスターがモデルアミノ酸多層試料を用いた有機材料の深さプロファイリングに対して卓越していることが示された。C₆₀⁺およびCs⁺に比べてAr₁₇₀₀スパッタリング条件下で,最善の深さ分解能および実際に最も近い実験層幅が得られた。

シソーラス用語： *二次イオン質量分析 ,  *アルゴン ,  *深さプロフィル ,  アミノ酸 ,  多層膜 ,  フラーレンC60 ,  *イオンビーム ,  セシウム化合物 ,  金属イオン ,  *イオンビームスパッタリング
準シソーラス用語： *TOF-SIMS ,  *クラスタイオンビーム ,  セシウムイオン

分類 (3件)： スパッタリング  (BK16110U) ,  固体の表面構造一般  (BK15010E) ,  質量分析  (CC03013N)

タイトルに関連する用語 (9件)： アルゴン ,  クラスター ,  スパッタリング ,  イオン ,  多層 ,  アミノ酸 ,  TOF-SIMS ,  深さプロファイリング ,  研究