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J-GLOBAL ID:201302262557423850   整理番号:13A1640269

光触媒流通反応系によるガス相メチルホスホン酸ジメチルの連続除去

Continuous elimination of gaseous dimethyl methylphosphonate by a photocatalytic flow reaction system
著者 (7件):
資料名:
巻: 146  ページ: 71-78  発行年: 2014年03月 
JST資料番号: W0375A  ISSN: 0926-3373  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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湿度(RH)の異なる所での連続光触媒反応系によるメチルホスホン酸ジメチル(DMMP)除去につて,ガスマスクまたは安全装備を使用できる長時間を越える災害現場での救助活動をできるようにするために研究を行った。高流速空気(10L/min)で,0.17μmol/L DMMPの約85%が相対湿度に関係なく,この光触媒反応系で除去できることが分かった。反対に,TiO2表面の中間体の形成から,光触媒活性は相対湿度に依存し,5時間の試験中,光触媒DMMP転化率は100%RHで74.5%であることが分かった。TiO2表面上のDMMP吸着はかなり強力で,DMMP除去が低湿度及び暗状態でも行われることが分かった。Copyright 2013 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (6件):
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大気汚染一般  ,  触媒操作  ,  反応装置  ,  光化学反応  ,  光化学反応,ラジカル反応  ,  分解反応 
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