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J-GLOBAL ID:201302262844283503   整理番号:13A0026530

単結晶β-Ga2O3基板を用いたPt/β-Ga2O3ショットキーバリアダイオード

Pt/β-Ga2O3 Schottky Barrier Diodes Using Single-Crystal β-Ga2O3 Substrates
著者 (7件):
資料名:
巻: 112  号: 327(ED2012 65-92)  ページ: 25-28  発行年: 2012年11月22日 
JST資料番号: S0532B  ISSN: 0913-5685  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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単結晶Ga2O3(010)基板を用いてショットキーバリアダイオードを作製した。フローティングゾーンで作製した単結晶Ga2O3基板は高い結晶性を有しており,X線ロッキングカーブの半値幅は32秒,エッチピット密度は1×104cm-2であった。作製したデバイスはショットキー特性の理想係数がほぼ理想値1.0を示し,電界集中緩和構造を用いていないシンプルなデバイス構造で150V程度の耐圧が得られた。ショットキーバリアハイトを評価した結果,Pt/β-Ga2O3界面のバリアハイトは1.3-1.5eVであることがわかった。(著者抄録)
シソーラス用語:
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