文献

J-GLOBAL ID：201302263124727508   整理番号：13A1600765

注入シリコン・ドーパント分布の解析

Analysis of implanted silicon dopant profiles

著者 (6件)： PROSA T.J. (Cameca Instruments Inc., WI, USA) ,  OLSON D. (Cameca Instruments Inc., WI, USA) ,  GEISER B. (Cameca Instruments Inc., WI, USA) ,  LARSON D.J. (Cameca Instruments Inc., WI, USA) ,  HENRY K. (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA) ,  STEEL E. (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA)
資料名： Ultramicroscopy  (Ultramicroscopy)
巻： 132  ページ： 179-185  発行年： 2013年09月 
JST資料番号： W0972A  ISSN： 0304-3991  CODEN： ULTRD  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： 注入 ,  シリコン ,  ドーパント ,  分布 ,  解析