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J-GLOBAL ID：201302263216843407   整理番号：13A1451068

機械的擦りによるCdSeナノロッドと位置規則性ポリ(3-ヘキシルチオフェン)の大規模な同期的配向

Large-Scale Simultaneous Orientation of CdSe Nanorods and Regioregular Poly(3-hexylthiophene) by Mechanical Rubbing

著者 (13件)： HARTMANN Lucia (ICS, CNRS, Strasbourg, FRA) ,  HARTMANN Lucia (UJF, Grenoble, FRA) ,  DJURADO David (UJF, Grenoble, FRA) ,  FLOREA Ileana (Univ. de Strasbourg, Strasbourg, FRA) ,  LEGRAND Jean-Francois (ICS, CNRS, Strasbourg, FRA) ,  FIORE Angela (UJF, Grenoble, FRA) ,  REISS Peter (UJF, Grenoble, FRA) ,  DOYLE Stephen (Inst. Synchrotronstrahlung (ISS), Eggenstein-Leopoldshafen, DEU) ,  VOROBIEV Alexeie (ESRF, Grenoble, FRA) ,  POUGET Stephanie (UJF, Grenoble, FRA) ,  CHANDEZON Frederic (UJF, Grenoble, FRA) ,  ERSEN Ovidiu (Univ. de Strasbourg, Strasbourg, FRA) ,  BRINKMANN Martin (ICS, CNRS, Strasbourg, FRA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 46  号： 15  ページ： 6177-6186  発行年： 2013年08月13日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 位置規則性ポリ(3-アルキルチオフェン)(P3AT)や半導体量子ドット(CdSe)のような共役重合体からなる機能性ハイブリッド材料は,ここ数年の間に高分子エレクトロニックスの分野で,ますます注目されるようになった。本報では,CdSeナノ桿体と位置規則性ポリ(3-ヘキシルチオフェン)の薄膜の大規模な同期的配向を,機械的擦りによって実施したので報告した。すれすれ入射X線回折測定とUV-vis分光学の組合せを用いて,CdSeナノロッドと結晶P3HT領域の配向分布を調べた。その結果,P3HT結晶領域は優先的に正面向きの配向を示し,その分子鎖はラビング方向と平行に整列したことが分かった。一方CdSeナノロッドもラビング方向と平行に整列したが,その程度は高分子マトリックス中の濃度に比例することが分かった。

シソーラス用語： *ポリヘキシルチオフェン ,  *分子配向 ,  *ナノ結晶 ,  量子ドット ,  複合材料 ,  ラビング ,  *結晶方位 ,  結晶構造 ,  X線構造解析 ,  モルフォロジー
準シソーラス用語： CdSe量子ドット ,  *ナノ結晶CdSe ,  ポリ(3-ヘキシルチオフェン) ,  *結晶配向 ,  有機無機複合材料

分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (7件)： 擦り ,  CdSe ,  ナノロッド ,  位置規則性 ,  3-ヘキシルチオフェン ,  大規模 ,  配向