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J-GLOBAL ID：201302263447575138   整理番号：13A1342621

低温でのRFマグネトロンスパッタリングにより製作したZnO薄膜の構造転移

Structural transition of ZnO thin films produced by RF magnetron sputtering at low temperatures

著者 (8件)： ROSA A. M. (Sao Paulo State Univ. (UNESP), Lab. of Technological Plasmas, Av. 3 de Marco, 511, Sorocaba, SP, BRA) ,  SILVA E. P. (Sao Paulo State Univ. (UNESP), Lab. of Technological Plasmas, Av. 3 de Marco, 511, Sorocaba, SP, BRA) ,  CHAVES M. (Sao Paulo State Univ. (UNESP), Lab. of Technological Plasmas, Av. 3 de Marco, 511, Sorocaba, SP, BRA) ,  TRINO L. D. (Sao Paulo State Univ. (UNESP), Group of Advanced Materials, Av. Eng. Luiz Edmundo Carrijo Coube, 14-01, Bauru, SP, BRA) ,  LISBOA-FILHO P. N. (Sao Paulo State Univ. (UNESP), Group of Advanced Materials, Av. Eng. Luiz Edmundo Carrijo Coube, 14-01, Bauru, SP, BRA) ,  SILVA T. F. (Sao Paulo Univ. (USP), Lab. of Materials Analysis with Ion Beams, Rua do Matao, trav. R, 187, Sao Paulo, SP, BRA) ,  DURRANT S. F. (Sao Paulo State Univ. (UNESP), Lab. of Technological Plasmas, Av. 3 de Marco, 511, Sorocaba, SP, BRA) ,  BORTOLETO J. R. R. (Sao Paulo State Univ. (UNESP), Lab. of Technological Plasmas, Av. 3 de Marco, 511, Sorocaba, SP, BRA)
資料名： Journal of Materials Science. Materials in Electronics  (Journal of Materials Science. Materials in Electronics)
巻： 24  号： 9  ページ： 3143-3148  発行年： 2013年09月 
JST資料番号： W0003A  ISSN： 0957-4522  CODEN： JMTSAS  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ガラス基板上への純粋な金属亜鉛ターゲットの反応性無線周波マグネトロンスパッタリングを用いて,酸化亜鉛(ZnO)薄膜を製作した。その膜の表面形態の進化と光学特性を50~250°Cに変化する基板温度の関数として調査した。原子間力顕微鏡法(AFM)を用いて試料の表面トポロジーを調べ,UV-可視-近赤外領域における透過率測定によりそれらの光学特性を調査した。DRXとAFM解析は,約150°Cの基板温度で表面形態が構造転移を被ることを示した。実際に,50°Cで小さな粒子の形成が観察され,250°Cでは,観察された粒子はより大きく,より不規則な形状を有した。光学ギャップは,全ての膜に対して~」3.3eVで一定のままであった。可視領域において,平均光透過率は80%であった。これらの結果から,ZnO薄膜の形態特性は,光学特性よりも多結晶粒子の方位ずれのために基板温度により,より大きく影響されると結論できる。Copyright 2013 Springer Science+Business Media New York Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *低温 ,  RFスパッタリング ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *酸化亜鉛 ,  *構造相転移 ,  *半導体薄膜 ,  表面性状 ,  *基板温度 ,  原子間力顕微鏡 ,  顕微鏡観察 ,  紫外線 ,  可視光 ,  近赤外線 ,  透過率 ,  光学ギャップ ,  *光透過 ,  透明導電膜 ,  *薄膜成長 ,  *温度依存性 ,  膜厚 ,  FWHM ,  X線回折 ,  走査電子顕微鏡 ,  電子顕微鏡観察

分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： 低温 ,  RFマグネトロンスパッタリング ,  製作 ,  ZnO薄膜 ,  構造転移